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Résumé
PreviewISO 17331:2004 specifies chemical methods for the collection of iron and/or nickel from the surface of silicon-wafer working reference materials by the vapour-phase decomposition method or the direct acid droplet decomposition method.
It applies to iron and/or nickel atomic surface densities from 6 times 10 to the power 9 atoms per square centimetre to 5 times 10 to the power 11 atoms per square centimetre.
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État actuel: PubliéeDate de publication: 2004-05
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Edition: 1
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- ICS :
- 71.040.40 Méthodes d'analyse chimique
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| std 1 92 | ||
| std 2 92 | Papier |
- CHF92
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Préliminaire
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Comité
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Approbation
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Publication
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Annulation
Rectificatifs techniques / Amendements
PubliéeISO 17331:2004/Amd 1:2010
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