International Standard
ISO 21466:2019
Microbeam analysis — Scanning electron microscopy — Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM
Reference number
ISO 21466:2019
Версия 1
2019-12
© ISO 2024
International Standard
Предпросмотр
недоступно на русском языке
Опубликовано (Версия 1, 2019)

ISO 21466:2019

Формат
Язык
CHF 173
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

This document specifies the structure model with related parameters, file format and fitting procedure for characterizing critical dimension (CD) values for wafer and photomask by imaging with a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM) by the model-based library (MBL) method. The method is applicable to linewidth determination for specimen, such as, gate on wafer, photomask, single isolated or dense line feature pattern down to size of 10 nm.

Общая информация

  • Текущий статус
     : Опубликовано
    Дата публикации
     : 2019-12
    Этап
    : Опубликование международного стандарта [60.60]
  • Версия
     : 1
  • Технический комитет :
    ISO/TC 202/SC 4
    ICS :
    37.020 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. ТК
  5. ISO/TC 202/SC 4
  6. ISO 21466:2019