Résumé
PreviewThis document gives guidance and requirements on the optimization of sputter-depth profiling parameters using appropriate single-layered and multilayered reference materials, in order to achieve optimum depth resolution as a function of instrument settings in Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry.
This document is not intended to cover the use of special multilayered systems such as delta doped layers.
-
État actuel: PubliéeDate de publication: 2022-11
-
Edition: 3
-
- ICS :
- 71.040.40 Méthodes d'analyse chimique
Acheter cette norme
fr
Format | Langue | |
---|---|---|
std 1 92 | PDF + ePub | |
std 2 92 | Papier |
- CHF92
Vous avez une question?
Consulter notre FAQ
Service à la clientèle
+41 22 749 08 88
Horaires d’ouverture:
De lundi à vendredi - 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)
Suivez l'actualité de l'ISO
Inscrivez-vous à notre Newsletter (en anglais) pour suivre nos actualités, points de vue et informations sur nos produits.