недоступно на русском языке

Тезис

 Preview

This document gives guidance and requirements on the optimization of sputter-depth profiling parameters using appropriate single-layered and multilayered reference materials, in order to achieve optimum depth resolution as a function of instrument settings in Auger electron spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy and secondary ion mass spectrometry.

This document is not intended to cover the use of special multilayered systems such as delta doped layers.


Общая информация 

  • Текущий статус
     : Опубликовано
    Дата публикации
     : 2022-11
  • Версия
     : 3
  • Технический комитет
     : ISO/TC 201/SC 4 Depth profiling
  • ICS
     :
    71.040.40 Chemical analysis

Приобрести данный стандарт

Формат Язык
PDF + ePub
Бумажный
  • CHF92

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цели в области устойчивого развития

7
Недорогостоящая и чистая энергия
9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

Работа с клиентами
+41 22 749 08 88

Часы работы:
Понедельник – пятница: 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. МКС
  5. 71
  6. 71.040
  7. 71.040.40
  8. ISO 14606:2022